基片温度对氧化铋薄膜光学性质的影响

摘要：

在玻璃基片上直流磁控溅射沉积氧化铋薄膜,基片温度从室温增加到300℃并保持其它沉积条件一致,研究基片温度对薄膜光学性能的影响.样品的晶体结构、表面形貌和透射光谱分别用X射线衍射仪、原子力显微镜和分光光度计进行测量.结果表明,随着基片温度的增加,样品中Bi2O3的(120)衍射峰强度增强,表面颗粒直径逐渐减小;基片温度为250,300℃样品出现了Bi2O2.75的(006)衍射峰.采用拟合透射光谱数据的方法计算薄膜的折射率,消光系数及厚度,并求出光学带隙.随基片温度的增加,氧化铋薄膜的折射率减小,消光系数在10-2～10-1数量级,光学带隙在3.51～3.04 eV递减.

关键词：氧化铋、薄膜、基片温度、光学性质

所属期刊栏目：27

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目11074041;福建省教育厅资助项目JA08048,JB08065

在线出版日期：2011-07-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：57-61