Ni在Ni(100)面的薄膜生长的蒙特卡罗模拟

摘要：

采用晶格动力学蒙特卡罗(KLMC)方法模拟Ni在Ni(100)面的薄膜生长,对原子的沉积、吸附、扩散、成核、生长等微观过程采用了合理的模型,研究基板温度和沉积速率对薄膜的生长形貌和表面粗糙度的影响.模拟结果表明:沉积在基板上的原子逐步由各个离散型变成紧致型的近四方形的岛,并由二维向三维岛转变,最后连接成膜;基板温度越高,沉积速率越低,生成的薄膜越平整,粗糙度越小;沉积速率一定,表面粗糙度随着基板温度的增加而减小,当基板温度达到一定值时粗糙度降为零.

关键词：蒙特卡罗模拟、薄膜生长、表面粗糙度、沉积速率

所属期刊栏目：26

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：国家973资助项目2005CB623605;福建省教育厅资助项目JB07045;国家自然科学基金项目资助60876069

在线出版日期：2010-04-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：59-63