反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜

摘要：

利用低频反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜.薄膜的微结构、表面形貌和光学性质等分别采用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜和紫外可见近红外分光光度计等观察和测量.测量发现溅射制备的光学薄膜为非晶结构,具有很好的表面平整度,厚度为515 nm,光学波长为550 nm处的折射率为2.264,可见光波段的消光系数小于10-3,光学带隙为3.49 eV.结果表明制备的五氧化二铌膜是性能良好的光学薄膜.

关键词：五氧化二铌、光学薄膜、特性

所属期刊栏目：20

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：福建省自然科学基金E030002;福建省科技厅科研项目K04023

在线出版日期：2005-01-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：46-49