改进基板修饰方法制备有机/无机分子沉积膜

摘要：

把硅烷偶联剂[(CH3O)3Si(CH2)3SH] 直接组装在石英基板上,随后将有机膜的端巯基(SH)原位氧化为磺酸基(SO3H),再利用其负电性表面交替沉积上双季铵盐和WO3(e-),制得多层有机/无机分子沉积膜.经紫外可见光谱及小角X射线衍射表征,该膜具有良好的超薄层状有序结构.

关键词：硅烷偶联剂、分子沉积膜、双季铵盐、三氧化钨

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分类号：TQ32

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：50-53