CVD法制备ZnO薄膜生长取向和表面形貌

摘要：

利用具有特定温度梯度的CVD设备,以锌粉和氧气为原料,在Si(100)衬底上制备了ZnO薄膜.研究发现,锌粉中加入某些氯化物后可以改变ZnO薄膜的生长取向.用FESEM观察ZnO薄膜的表面形貌,发现Zn和氯化物的量比为1:1时,生长的ZnO薄膜表面晶粒呈菱形或三角形({101}面),当二者的量比为10:1时薄膜表面晶粒呈六棱台形({001}面).XRD分析结果证实,前者只观察到(101)和(202)衍射峰,而后者出现(002)衍射峰且其强度大于(101)衍射峰.改变衬底或温度后得到的结果相同.因此,作者认为氯化物改变薄膜生长取向的现象与衬底和生长温度无关,添加的氯化物起到降低ZnO{101}面表面能的作用,随着氯化物浓度的增加,薄膜从沿[001]方向生长逐渐转向沿[101]方向生长.

关键词：CVD、ZnO薄膜、生长取向、生长机理

所属期刊栏目：29

分类号：O484.1;O766(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金50532070;50472009;10474091

在线出版日期：2008-06-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：294-298