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10.3321/j.issn:1000-7032.2000.02.013

Y1.95-xGdxSiO5:Eu0.05的真空紫外光谱

引用
利用高温固相法合成了Y1.95-xGdxSiO5:Eu0.05(x=0.6mol%)荧光体.结构测定表明所合成的荧光体为单斜晶系的X2型Y2SiO5相,空间群为B2/b.真空紫外光谱表明:随着Gd3+含量的增加,在192nm附近,出现了Gd3+的激发峰,且此峰的强度随着Gd3+含量的增加而增大;同时位于150~185nm之间的基质吸收带的强度也增大;而位于200~300nm之间的Eu的电荷迁移带的强度却随着Gd3+含量的增加而降低.

Y1.95-xGdxSiO5:Eu0.05、真空紫外光谱、基质吸收带

21

O482.31(固体物理学)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

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1000-7032

22-1116/O4

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