利益格局下知识产权法对3D打印技术发展的回应及思考

摘要：

随着3D打印技术的发展和应用桌面化,3D打印可能带来的知识产权问题越来越受到业界的关注.2014年9月26-27日,3D打印技术发展与知识产权制度变革论坛在武汉召开,该论坛由中国知识产权法学研究会,华中科技大学中国知识产权司法保护理论研究基地,华中科技大学法学院,华中科技大学材料与工程科学院联合举办.

机标关键词：利益格局、知识产权法、打印技术、华中科技大学、知识产权问题、中国、制度变革、司法保护、理论研究、技术发展、法学研究、桌面化、科学院、应用、武汉、基地、工程、材料

分类号：TP3;G64

在线出版日期：2014-11-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：22-23