贵金属磁控溅射镀膜技术及工艺研究

摘要：

本文介绍了一种独特的贵重金属溅射靶的结构设计,并在此基础上对贵重金属磁控溅射薄膜工艺进行研究,结果表明新型靶的设计可以有效提高靶材利用率达60%以上,沉积的Au薄膜具有良好的均匀性,且附着力大于25.1 N/mm2.

关键词：磁控溅射、Au、薄膜均匀性、附着力

分类号：TQ171.724;O571.53;TG146.3

在线出版日期：2010-05-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：45-47