射频溅射沉积SiO2膜的工艺及其结构性能研究

摘要：

利用自制的磁控溅射沉积设备,针对影响SiO2薄膜沉积速率的氩气流量,氧气分压两个关键参数进行工艺研究,并通过扫描电子显微镜(SEM)对沉积完成的Si不O2薄膜表面、剖面结构质量进行表征,结果表明,射频溅射沉积的SiO2薄膜均匀、致密,具有良好的结构性能.

关键词：射频溅射、SiO、SEM、沉积速率

分类号：TN304.055;O484;TB43

在线出版日期：2010-05-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：43-44