晶体硅太阳能电池钝化膜制备技术的新进展

摘要：

晶体硅太阳能电池行业的迅猛发展,对产业装备提出了越来越高的要求,本文介绍了晶硅太阳能电池钝化膜的制备原理,比较了当前几种主流的PECVD设备技术特点、相互区别,并进一步分析了PECVD设备的技术发展趋势.高性能、高产量、高成品率、低维护成本以及环保节能等是PECVD设备技术能满足市场并高速发展的重要条件.

关键词：PECVD、晶硅太阳能电池、国产设备、国产化

分类号：TN304.055;O614.811;TM914.41

在线出版日期：2010-05-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：18-21