气囊气缸式真空紫外纳米压印设备研制

摘要：

本文介绍了紫外纳米压印技术原理,以及工艺中模板与基片的平行度对压印质量的影响.研制了气囊气缸式真空紫外纳米压印设备,其通过气囊气缸使模板与基片平行,从而可在大面积基片上确保压力均匀.研制了相应的光学系统,着重讨论了如何实现紫外纳米压印以及光学系统的设计和调整.制备了石英玻璃模板,实现了在商用紫外固化聚合物OG154上的紫外纳米压印,转移复制了具有100nm特征的5cm×5cm面积的纳米结构图形.

关键词：纳米压印、紫外、光学系统、气囊气缸、真空

分类号：TB383;TS6;TN405.7

在线出版日期：2010-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：40-43