32纳米技术代工艺挑战及对硅刻蚀设备的要求

摘要：

@@ 集成电路产业的发展一直以来都在遵循摩尔定律,随着2007-2008年国际主要集成电路制造商(IDM)以及代工商(Foundry)进入45nm产品量产阶段,对32nm以及22nm技术的研究开发,成为整个产业链关注和竞争的焦点.

机标关键词：刻蚀设备、纳米技术、硅刻蚀

分类号：TN305;TN86;O64

在线出版日期：2010-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：26-28