8英寸立式扩散/氧化炉的研制

摘要：

本文简要介绍了适用于8英寸硅片、能够进行扩散、氧化、退火、合金等工艺的立式扩散氧化炉的研制目的、技术路线、关键部件及技术难点.重点介绍了加热炉体及其温度控制、储片台、颗粒控制及设备含氧量的设计及控制.

关键词：8英寸立式炉、颗粒控制、加热炉体、旋转储片台

分类号：TN305;TP273;U448.216

在线出版日期：2010-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：19-23