10.3969/j.issn.1563-4795.2011.08.008
用于X射线探测器的非晶硒薄膜的制备及其性能的研究
非晶硒薄膜由于用在X射线数字平板探测器时有很高的灵敏度和分辨率,近年来一直是热门的研究课题.文中采用超高真空热蒸镀方法对如何制备出性能优良的非晶硒薄膜的方法进行了探讨,在严格控制蒸发室温度和基底温度的前提下,采用不同的蒸发电流和蒸发速率制备出不同的非晶硒薄膜,并对其进行了电阻测试和XRD分析以及耐高温测试.经过系列实验和结果分析,制备出了电阻率较高并有一定耐高温性能的非晶硒薄膜.
X射线探测器、α-Se、耐高温、XRD
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TB43(工业通用技术与设备)
2012-01-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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