二氧化硅上的铝金属化层失效模式分析
主要从SiO2的质量、铝金属化质量、电应力和热应力等诸多因素出发分析SiO2表面上铝金属化层的失效模式.
二氧化硅、金属化、失效模式
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TN306(半导体技术)
2007-07-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
52-53
二氧化硅、金属化、失效模式
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TN306(半导体技术)
2007-07-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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