期刊专题

二氧化硅上的铝金属化层失效模式分析

引用
主要从SiO2的质量、铝金属化质量、电应力和热应力等诸多因素出发分析SiO2表面上铝金属化层的失效模式.

二氧化硅、金属化、失效模式

5

TN306(半导体技术)

2007-07-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共2页

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电子元器件应用

1563-4795

N陕新出印9621

5

2003,5(4)

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