期刊专题

VLSI与超纯硅材料

引用
通过VLSI与超纯硅材料关系的论述,阐明了我国VLSI的发展急需解决高质量的超纯硅材料.提高大直径硅片的平整度;氧、碳含量稳定、均匀、可控;提高微区电阻率的均匀性;硅表面洁净、具有密封、屏蔽的防静电包装技术是当今硅材料发展的主攻课题.超纯硅材料的完美结晶特性和超精度加工技术水平取决于基础材料(化学试剂、高纯气体、)的高纯度、小颗粒和低杂质含量的控制.

超纯硅、超大规模集成电路、材料

4

TN304.1+2(半导体技术)

2007-07-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

47-50

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电子元器件应用

1563-4795

N陕新出印9621

4

2002,4(3)

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