基于相干光的微电子光学测量系统技术分析

摘要：

目前集成电路对微电子测量技术提出了较高要求,其中光学关键尺寸作为微电子测量中的关键,其分辨率与测量极限问题表现得较为突出.本文基于相干光技术,详细研究相干光技术在微电子光学测量中的应用,并提出一套完整的系统方案,希望为进一步提高微电子测量精准度寻找出更有效的方法.

关键词：相干光、微电子、光学测量、光路系统

所属期刊栏目：4

分类号：TN40(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2020-12-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：4-5