光刻机曝光系统中物镜抛光专利分析

摘要：

光刻机是加工芯片的关键器件,每一个部件都要满足高精度的设计要求,其中最基础的一步是物镜的加工,直接影响最后的线宽精度.本文针对全球专利数据库中的物镜加工中的打磨抛光技术进行了梳理,打磨抛光分为离子束抛光、磁流变抛光、抛光盘抛光和柔性介质抛光四个技术分支,分析了各个分支的占比、申请趋势以及技术发展脉络,以期对国内物镜加工的技术发展提供借鉴.

关键词：光刻机、物镜抛光、专利

所属期刊栏目：4

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2020-10-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：5-6