以MVC为基础的CMP软件模块开发分析

摘要：

在应用化学机械抛光技术(CMP)软件的过程中存在一些问题,其工艺控制种类比较多,并且在此基础上软件系统相对较为复杂,运行参数数据量大,这在较大程度上不利于CMP软件的正常应用.为此,将MVC应用在CMP软件设计中,不但能够有效降低软件模块之间的耦合性,而且使程序维护性与复用性实施有效提升.本文首先阐述MVC架构原理,而后深入探讨MVC在CMP软件中的应用,最后探究了基于MVC架构的子模块设计,以此提出几点宝贵意见,仅供参考.

关键词：MVC原理、CMP软件、软件模块设计、特点

所属期刊栏目：4

分类号：TP311(计算技术、计算机技术)

在线出版日期：2020-06-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：118-119