应用材料推出DUV亮场硅片检测工具UVision 3系统

摘要：

@@ 近日,应用材料公司推出具有业界最高生产力的DUV(深紫外)亮场硅片检测工具UVision3系统,它能满足45nm前端制程和浸没式光刻对于关键缺陷检测灵敏度的要求.

机标关键词：应用材料、硅片、检测工具、缺陷检测灵敏度、浸没式光刻、生产力、深紫外、系统、前端

分类号：TN3;U66

在线出版日期：2008-03-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：27