10.3969/j.issn.1000-1077.2006.09.049
新工艺给我们带来了什么?
@@ 当90纳米来到大家面前时,半导体工艺已经进入了深亚微米时代.旧有的设计经验在这个临界点开始显出疲态,新的问题像隐藏在机器里面的尘埃,不易察觉却足以让整个”系统”崩溃.是时候”大扫除”一次;将”它们”统统清扫出来了.
半导体工艺、深亚微米、设计经验、临界点、系统、时代、清扫、纳米、机器、尘埃
TP3;V24
2006-11-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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10.3969/j.issn.1000-1077.2006.09.049
半导体工艺、深亚微米、设计经验、临界点、系统、时代、清扫、纳米、机器、尘埃
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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