类四方BiFeO3薄膜中新型极化拓扑结构研究

摘要：

结合像差校正透射电子显微术和精密脉冲激光沉积技术,本文研究了生长在LaAlO3 衬底上的单层铁电BiFeO3 薄膜中应变调控和缺陷诱导的极化涡旋拓扑畴组态.HAADF-STEM成像揭示了薄膜中的层状BiO+面缺陷有助于稳定畴壁面为(100)型的类180°畴结构,并在这种新型的180°畴壁和LaAlO3 界面相交区域诱导形成了半涡旋和极化涡旋拓扑结构.

关键词：半涡旋-涡旋、180°畴壁、像差校正电子显微学、类四方BiFeO3薄膜

所属期刊栏目：42

分类号：TB383;O77;TG115.21+5.3(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金No.51971223

在线出版日期：2023-10-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：424-432