热处理对CuO纳米线生长的影响

摘要：

本文通过热氧化法制备了CuO纳米线，利用X射线衍射和扫描电子显微镜，研究了温度和冷却方式对CuO纳米线生长的影响。600℃空冷样品只长出了少量CuO纳米线，600℃炉冷样品上观察到了大量CuO纳米线，400℃空冷样品上也生长了大量CuO纳米线，表明CuO纳米线的实际生长温度不高于400℃。温度比较高时，以CuO层的生长为主；在温度比较低时，以CuO纳米线的生长为主。这一结果可以通过铜离子在氧化层中的扩散过程来理解。

关键词：氧化铜纳米线、热氧化法、生长、扩散

所属期刊栏目：35

分类号：TB383.1;TN304.05;TG115.21+5.3(工程材料学)

资助基金：北京工业大学基础研究基金项目 No． X4102001201301．

在线出版日期：2016-10-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：399-403