基于聚焦离子束注入的微纳加工技术研究

摘要：

提出了聚焦离子束注入(focused ion beam implantation,FIBI)和聚焦离子束XeF2气体辅助刻蚀(gas assistedetching,GAE)相结合的微纳加工技术.通过扫描电镜观察FIBI横截面研究了聚焦离子束加工参数与离子注入深度的关系.当镓离子剂量大于1.4×1017ion/cm2时,聚焦离子束注入层中观察到均匀分布、直径10～15nm的纳米颗粒层.以此作为XeF2气体反应的掩膜,利用聚焦离子束XeF2气体辅助刻蚀(FIB-GAE)技术实现了多种微纳米级结构和器件加工,如纳米光栅、纳米电极和微正弦结构等.结果表明该方法灵活高效,很有发展前途.

关键词：聚焦离子束(FIB)、离子注入、气体辅助刻蚀(GAE)、微结构

所属期刊栏目：28

分类号：TH73;TH74;O59(仪器、仪表)

资助基金：高等学校学科创新引资计划资助B07014

在线出版日期：2009-05-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：62-67