图形改正方法在邻近效应修正中的应用

摘要：

本文利用双高斯形式的邻近函数来表达电子束在抗蚀剂中能量的分布,并以邻近函数为基础计算一些简单图形在曝光时所需的尺寸改变量.通过与实验的比较来说明该方法的可靠性,并对所得结果进行讨论和分析.

关键词：邻近效应校正、电子束光刻

所属期刊栏目：27

分类号：TN405;TN305(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2009-01-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：375-378