电子束蒸发法制备MoO3薄膜及其性质研究

摘要：

采用电子束蒸发法在玻璃衬底上制备MoO3薄膜.X射线衍射谱表明制备样品属于正交晶系,沿<010>晶向择优取向生长.随着衬底温度的升高,样品的晶粒尺寸先增大后减小,退火后又增大.此外,样品的(040)衍射峰随衬底温度升高单调向低衍射角方向移动.扫描电镜照片显示制备样品具有针状晶粒特征,退火后晶粒大小的分布趋于均匀.紫外-可见透过谱测试发现,随衬底温度的升高,一方面样品的光吸收边向长波方向移动,透过率降低；另一方面,样品的光学带隙由100℃时的2.93 eV降为300℃时的2.59 eV,经过500℃大气氛围下退火后,光学带隙减小至2.46 eV.

关键词：晶体结构、电子束蒸发、MoO3薄膜、表面形貌、紫外-可见透过谱

所属期刊栏目：40

分类号：TB34(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金50902012

在线出版日期：2012-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：933-936