10.16157/j.issn.0258-7998.2017.01.003
4H-SiC MESFET特性对比及仿真
通过对双凹栅结构和阶梯栅结构4H-SiC MESFET的直流特性对比,得出阶梯栅结构的直流特性优于双凹栅结构.对阶梯栅结构进行极限化处理后,引出了坡形栅4H-SiC MESFET的结构及其特征参数EPCG,通过仿真对比了坡形栅4H-SiC MESFET结构EPCG分别为1/4栅、1/2栅、3/4栅和全栅时的直流特性.结果表明,当EPCG为1/2栅时,最大饱和漏电流取得最大值,在VG=0 V、VDS=40 V的条件下达到了545 mA;当EPCG为1/4栅、3/4栅和全栅时,最大饱和漏电流均不如EPCG为1/2栅时取得的最大值.
仿真、4H-SiC MESFET、阶梯栅、坡形栅
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TN386.2(半导体技术)
2017-02-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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13-15,19