自动测试技术在MEMS硅腔滤波器工艺中的应用

摘要：

在微波通信系统中,滤波器作为通信系统中不可缺少的微波无源器件,其性能指标直接影响整个通信系统的性能.与传统滤波器相比,微机电系统(Micro-Electro-Mechanical System,MEMS)滤波器具有集成度高、小型化等优点,其中腔体结构在RF MEMS滤波器中有着广泛的应用.感应耦合等离子刻蚀是实现三维腔体结构的关键技术,其刻蚀均匀性直接影响腔体滤波器的性能指标.过程控制监控(Process Control Monitoring,PCM)是MEMS工艺控制中的重要监控手段,利用自动测试系统,论述了用于自动测试的PCM图形,通过数据处理得到硅腔深度分布图,并拟合出硅腔深度和中心频率对应关系,反应了当前刻蚀的工艺能力,为后续产品设计、提高刻蚀均匀性及优化版图设计提供了数据支撑.

关键词：滤波器、腔体深度、自动测试、过程控制监控、中心频率

所属期刊栏目：53

分类号：TN606(电子元件、组件)

在线出版日期：2024-09-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：54-57