基于CMP运行过程数据可视化分析系统的研究与实现

摘要：

Chemical Mechanical Polishing(CMP)工艺过程中产生大量运行数据,存在数据量庞大、数据种类复杂多样等特点.而且现有数据分析方法单一,造成数据资源浪费,限制研究人员对运行情况的掌握和优化.针对这些情况提出一种数据可视化分析系统,对运行数据进行实时存储,提出4种可视化视图,针对不同数据分析需求,通过对比分析、关联分析和用户交互,可有效帮助研究人员探索工艺过程中影响工艺效果的原因,优化工艺参数,提升生产效率.

关键词：化学机械抛光、可视分析、用户交互

所属期刊栏目：53

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2024-09-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：24-29