光刻胶涂胶厚度均匀性影响因素探究

摘要：

介绍了光刻胶涂胶过程中对涂胶厚度均匀性的影响因素及发生均匀性问题的成因.对光刻工艺和光刻胶进行概述,通过对光刻工艺和光刻胶的涂胶学习可发现随着光刻工艺的不断进步,对光刻胶涂胶胶厚均匀性要求也在不断地提升,在实际的生产过程中却经常会出现涂胶均匀性较差而无法满足工艺要求.重点针对光刻胶涂胶厚度均匀性影响因素进行探究,详细介绍了会对其产生影响的因素.通过有效地管控好这些影响因素能够确保涂胶厚度均匀性,提升曝光质量,从而推动光刻技术的发展.

关键词：光刻、光刻胶、涂胶、均匀性、影响因素

所属期刊栏目：51

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2023-02-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：6-11