曝光剂量精度误差分析研究

摘要：

曝光剂量精度是光刻工艺中重要的控制参数,从剂量控制模型出发,分析了影响剂量精度的因素并建立误差模型,进一步将需求指标分解到各误差项,作为剂量控制系统的设计输入;通过试验测试剂量精度和重复精度满足设计需求,验证了剂量误差模型的准确性.

关键词：剂量精度、剂量重复精度、曝光剂量、线宽均匀性

所属期刊栏目：51

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2023-01-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：10-12,23