抛光工艺对晶片表面粗糙度的影响

摘要：

介绍了碲锌镉晶片抛光机的工艺过程和原理,研究了抛光工艺中抛光液粒度、抛光压力、抛光液流量和工作台转速对晶片表面粗糙度及平整度的影响,并提出了提高晶片抛光加工表面质量的方法和实际加工效果.

关键词：碲锌镉、抛光工艺、粗糙度

所属期刊栏目：51

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2022-09-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：40-42,68