集成电路湿法工艺与湿法设备制造技术研究

摘要：

简述了集成电路制造中的湿法工艺,重点介绍了栅氧清洗、RCA清洗、去胶、氮化硅去除、氧化硅腐蚀等湿法工艺,并对槽式湿法设备的关键制造技术进行了讲解.

关键词：集成电路、湿法工艺、湿法设备、栅氧清洗、湿法去胶、氮化硅腐蚀

所属期刊栏目：51

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2022-07-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：30-35,65