一种无源真空吸附装置的研究

摘要：

为消除真空管路对高精密工件台的干扰,提出并开发了一种无气源、无管路干扰的真空吸附装置,采用与吸盘结构集成的机械驱动装置在常压环境中自动产生真空源,直接实现吸盘吸附硅片的功能,通过对该装置进行试验分析,结果表明,在60 s内可保持吸盘-40～-50 kPa的真空压力,可满足硅片在曝光过程中的吸附要求.

关键词：工件台、无源真空、吸附装置

所属期刊栏目：51

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2022-07-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：57-63