基于双掩模光刻机的真空复印机构与工艺研究

摘要：

介绍了双面光刻机的类型、工作原理及特点,研究分析了双掩模光刻机的曝光方式,提出了一种通过改进曝光模式、提高双掩模光刻机曝光分辨率及基片曝光线条均匀性的方法,并通过生产线工艺验证及数据分析,得出通过该工艺曝光模式,满足生产线实际工艺要求.

关键词：双面光刻机、曝光方式、曝光工艺、真空复印

所属期刊栏目：51

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2022-07-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：25-29,70