期刊专题

10.3969/j.issn.1004-4507.2021.06.004

VDMOS器件制造中的湿法工艺与设备研究

引用
简述了VDMOS器件制造工艺流程,介绍了其中常用的RCA清洗、SPM去胶、BOE腐蚀、Al腐蚀等湿法工艺,并对相关湿法设备的配置以及工作原理进行了介绍.

VDMOS器件;湿法设备;RCA清洗;SPM去胶;BOE腐蚀;铝腐蚀

50

TN305(半导体技术)

2022-01-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

16-20

暂无封面信息
查看本期封面目录

电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

50

2021,50(6)

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn