10.3969/j.issn.1004-4507.2021.06.004
VDMOS器件制造中的湿法工艺与设备研究
简述了VDMOS器件制造工艺流程,介绍了其中常用的RCA清洗、SPM去胶、BOE腐蚀、Al腐蚀等湿法工艺,并对相关湿法设备的配置以及工作原理进行了介绍.
VDMOS器件;湿法设备;RCA清洗;SPM去胶;BOE腐蚀;铝腐蚀
50
TN305(半导体技术)
2022-01-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
16-20
10.3969/j.issn.1004-4507.2021.06.004
VDMOS器件;湿法设备;RCA清洗;SPM去胶;BOE腐蚀;铝腐蚀
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TN305(半导体技术)
2022-01-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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