离子束溅射沉积设备制备薄膜均匀性研究

摘要：

针对离子束溅射沉积设备薄膜均匀性问题,采用理论分析计算和试验相结合的方法计算了薄膜厚度的分布差异,由此设计出修正板外形.实验结果表明,修正后的薄膜均匀性从32％提高到了1.7％.

关键词：离子束溅射沉积;薄膜;修正板;均匀性

所属期刊栏目：50

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2021-08-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：35-39