液相外延设备温度控制系统研究

摘要：

水平液相外延设备是目前生产碲镉汞薄膜材料的主要设备,其温度控制的精度、温度场的均匀性等是设备的关键性能指标.为了满足液相外延设备对温度控制的要求,设计了多段独立控制的加热系统,并采用串级控温方式对炉体中反应管內温度进行精准控制;通过在不同加热阶段对串级参数进行动态调整,提升反应管內温度的动态跟随性能;开发了设备控制软件并对温度控制性能进行了测试.结果表明,该温度控制系统可以满足不同加热阶段的不同功率要求,温度控制的精度、恒温区均匀性以及动态跟随性能等均符合工艺技术要求,并在液相外延设备上成功应用.

关键词：液相外延设备、温度控制、串级PID控制、动态参数调整

所属期刊栏目：50

分类号：TN304.054(半导体技术)

在线出版日期：2021-03-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：8-11,56