10.3969/j.issn.1004-4507.2021.01.002
碲锌镉晶片双面磨抛加工表面损伤层研究
介绍了碲锌镉晶片双面磨抛机的工艺过程和原理,研究了双面磨抛工艺中磨抛液粒度、抛光压力、抛光液流量和工作台转速对晶片表面损伤层深度的影响.
碲锌镉、双面磨抛、表面损伤层
50
TN305.2(半导体技术)
2021-03-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
5-7,46
10.3969/j.issn.1004-4507.2021.01.002
碲锌镉、双面磨抛、表面损伤层
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TN305.2(半导体技术)
2021-03-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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