涂胶曝光显影一体化设备研究

摘要：

以光刻工艺为核心,介绍了匀胶曝光显影一体化设备,对设备的特点进行了分析,同时对设备的运行流程、结构布局、工作效率和电控及软件的实现进行了介绍,并提出了该设备今后优化的方向.

关键词：光刻、涂胶、曝光、显影

所属期刊栏目：49

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2021-01-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：31-36