ASM:先进制程设备需求旺,ALD和Epi产品线强劲增长

摘要：

在5G、物联网、AI等高端应用的持续催化下,设备作为半导体元器件制造的基础,面临的关键技术挑战越来越多.ALD (原子层沉积)以前是一个不起眼的工艺,随着集成电路技术不断演进,ALD逐步成为半导体器件突破挑战的主要工艺之一.

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在线出版日期：2020-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：65-66