10.3969/j.issn.1004-4507.2020.04.011
CMP抛光头分区自动压力校准方法 的研究与实现
针对化学机械抛光(CMP)抛光头分区压力控制过程中存在的加载压力与反馈压力不一致、人工校准效率低、操作易出错等影响抛光工艺效果的问题,提出一种基于高精度压力检测仪的抛光头分区自动压力校准方法,并依据该方法,基于模型-视图-控制器(MVC)架构实现自动压力校准程序.经生产验证,采用该方法可提升工作效率,减少校准误差,提高压力校准精度.
化学机械抛光、自动压力校准、高精度压力检测仪
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TN305(半导体技术)
2020-08-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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