CMP精准过程控制系统数据库的设计

摘要：

CMP设备通过精准过程控制系统(Precision Process Control,PPC)可以精准计算抛光时间.而在这一过程中,需要存储大量的抛光历史数据、晶圆厚度量测数据、计算中间值和模型配置信息等.这些数据信息数量巨大、关系复杂,并且在计算过程中需要快速获取相关数据.为了更好地适应了PPC的需求,可利用MySQL数据库对这些数据进行存储管理.通过需求分析和实体关系模型的建立,实现了数据库的设计.最终利用数据库实现了数据的有效管理及快速查询,并在机台稳定运行.

关键词：化学机械抛光、精准过程控制、数据库

所属期刊栏目：49

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2020-07-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：18-22