高效率光刻机系统设计

摘要：

为满足芯片生产产能提升的需要,研制了一种高效率接触/接近式自动光刻机系统.通过关键零部件合理布局及局部高效动作设计提高了光刻机的生产效率,利用全周期动作时序图进行理论效率测算～160片/h(曝光时间为10 s),实验测试生产效率为一次曝光280片/h,套刻效率为180片/h(曝光时间为10 s).

关键词：光刻机、系统设计、生产效率

所属期刊栏目：48

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2020-01-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：36-39