CMP设备清洗单元控制软件研究

摘要：

以应用材料公司设备为例介绍了CMP后清洗的工作原理;并针对兆声清洗和机械刷洗的软件需求做了深入分析;运用UML面向对象设计方法建立了可视化模型,对清洗单元的软件架构和设计方案进行了研究.

关键词：化学机械平坦化设备、清洗单元、控制软件、软件设计

所属期刊栏目：48

分类号：TN305.97(半导体技术)

在线出版日期：2019-12-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：21-25,52