掺铝ZnO透明导电膜动态制备及性能研究

摘要：

采用射频磁控溅射法在玻璃上动态制备高质量的掺铝ZnO (AZO)透明导电膜,研究了动态沉积条件下AZO薄膜的膜厚和电阻率均匀性,以及溅射气压对AZO薄膜结构和光电性能的影响.结果 表明:在动态沉积模式下,获得了具有优良膜厚和电阻率均匀性;AZO薄膜在400～800 nm波长范围内的平均透过率高于90％;同时随着溅射气压的增加,晶粒尺寸从47.8 nm逐渐减小到41.4 nm,禁带宽度从3.46 eV逐渐降低到3.40 eV,电阻率先降低后上升,在0.5 Pa时电阻率为最低值1.5×10-3Ω·cm.

关键词：AZO薄膜、射频磁控溅射、动态沉积、溅射气压

所属期刊栏目：48

分类号：TB332;TQ34(工程材料学)

在线出版日期：2019-10-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：32-36