全自动涂胶设备及涂胶工艺的研究

摘要：

涂胶作为光刻工艺的重要环节,为了保证涂胶工艺质量,提高涂胶设备的自动化程度,减少中间污染环节,开发了一种全自动涂胶设备,通过对涂胶腔体和机械手等关键部件的改进,更好地满足了用户生产线要求;并通过对涂胶工艺中影响膜厚均匀性的重要因素进行研究、实验和分析,得出了适合用户生产线的工艺配方.

关键词：涂胶腔体、机械手、涂胶工艺

所属期刊栏目：48

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2019-07-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：56-59