基于MVC架构的CMP软件模块开发研究

摘要：

针对化学机械抛光技术(CMP)软件系统复杂、工艺控制种类繁多、运行参数数据量大等问题,提出将MVC(Model-View-Controller)架构应用于CMP软件设计的方法;阐述了MVC架构在CMP软件设计中的应用以及在事件管理程序设计(模块3)和信息筛选中的应用;基于MVC架构的软件设计方法降低了软件模块之间的耦合性,提高了程序的复用性和可维护性.

关键词：化学机械抛光、模型-视图-控制器架构、软件设计方法

所属期刊栏目：48

分类号：TP311(计算技术、计算机技术)

在线出版日期：2019-07-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：25-28