基于Fluent的半导体湿法腐蚀过程中的废气排放流场研究

摘要：

湿法腐蚀清洗设备湿区对洁净度有严格要求,流场分布对其影响很大,通过Fluent对湿区的流场进行分析,建立流场数值模型和几何模型并对流场进行数值计算;改变槽体化学槽气体溢出的速度和排风出口的压强分析流场特性; 计算3种排风出口几何模型并分析对湿区流场的影响.

关键词：湿法腐蚀清洗设备、流场分析、硅腐蚀

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2019-08-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：31-36