制取高浓度臭氧超净水方法及其设备

摘要：

采用超窄间隙介质阻挡电离放电方法将氧离解、电离、电离离解成低温氧等离子体,其中O- 和O2(a1Δg)等活性粒子在电场中反应生成高浓度臭氧O3,臭氧浓度达到286 mg/L.臭氧产生设备输出高浓度臭氧输送给气液溶解混合装置, 将高浓度臭氧强激励溶解于超净水中形成高浓度臭氧超净水,仅用3 min其浓度达到54.6 mg/L.所形成高浓度超净臭氧水将把硅片表面颗粒物、金属离子、粘附有机物、自然氧化膜等消除掉.解决硅片表面存在的质量技术问题.

关键词：清洗硅片表面、臭氧超净水、超窄间隙介质阻挡电离放电、等离子体源、气液溶解混合

分类号：TN305(半导体技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划8632008AA06Z317;国家自然科基金资助项目61371027、507778028、50578020、61671100

在线出版日期：2019-08-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：22-25,54